当社は近年の半導体業界の目覚ましい発展に伴い、台湾RunSea-technologyのグループ会社として2024年に日本で設立されました。
台湾のTSMC製造装置・部品材料の重要サプライヤーであるRunSea-technology、PacificaAsia Advanceと連携し、JASMをはじめとする日本のお客様に半導体・FPDパネル装置部品・材料を供給するとともに、日本の半導体・FPD関連製造装置・部品材料を台湾・中国・米国・韓国などに輸出しています。将来には日本での工場設立も視野に入れています。
Japan Subsidiary
TSMC / Samsung
Capital
6 Countries
| 会社名 | 株式会社RON International |
|---|---|
| 所在地 | 〒105-0023 東京都港区芝浦1丁目6番41-709号 |
| TEL | 03-6823-9366 |
| 設立年月日 | 2022年5月16日 |
| 代表者 | 代表取締役 笹木三朗 |
| 資本金 | 3,000万円 |
| 事業目的 | 各種電子材料（半導体、FPDパネル、フィルム等）製造装置・部品材料の開発・販売（輸入及び輸出）／フットウェア産業・ヘルスケア関連商品・建築材料等の販売（輸入及び輸出） |
私たちは自らを科学技術の基盤産業と位置づけ、総合科学技術産業グループを目指します。 培ってきたグローバルネットワークを最大限に活用し、世界の電子産業の発展に貢献し続けます。
半導体・FPDパネル製造工程に欠かせない高品質な装置部品・材料を、世界中のパートナー工場と連携してご提供します。
半導体・パネル用ハイエンド弾性シールを生産。台湾TSMC N5/N3先端プロセスと韓国サムスン高階プロセス向けO-Ringを大量供給する台湾国内唯一の工場です。
日本RiverStone工業の各種金属・セラミックコーティング。TSMC N5/N3先端プロセスの重要サプライヤーとして、高品質なSERDコーティングを提供します。
インゴットから加工・穴あけ・研磨・洗浄まで全工程を自社生産。孔同心度を30μm未満に抑え、Siインゴット生産能力は年間250トン。
半導体の拡散・酸化・LPCVD等の炉管工程で使用される超高純度SiCキャリア。99.9995%以上の高純度、1200℃〜1600℃対応、石英ボートの約5〜7倍の寿命。
単相冷却に適したフッ素系不活性液体。危険物ではなく、40kVを超える絶縁破壊電圧、ODP値0で低GWP。温度制御システムに最適です。
パネル用ブラシの生産・研究開発に15年以上。日本SHIBAURA、韓国DMSのG7/G8.5/G10以上ブラシ認証取得。G3.5〜G11主要パネルメーカーに供給。
航空宇宙部品、FSW（摩擦攪拌接合）による銅製バッキングプレート、大型CNCチャンバー部品の加工・製造を自社工場で行います。
大気圧プラズマ技術を応用したフットウェア関連の表面処理装置。電子関連分野の後工程にも対応し、多数のフットウェアメーカーに導入実績があります。
台湾を中心に、日本・韓国・中国・シンガポール・米国に拠点を持ち、お客様のニーズに迅速かつ的確に対応します。
朗曦科技を成立／材料及び部材の販売を開始
フッ素系O-Ringの販売を開始
沛亜先進を設立／アフターサービス事業を開始
暢揚を吸収合併／対中貿易業務を開始
バイオメディカル歯科材料事業に参入／Forestadent牙材矯正台湾業務の代理を開始
日本EKK磁性流体シャフトシールの中国業務の代理を開始
蘇州筑科を吸収合併／プラスチック包装資材の生産を開始
昆山暢德を吸収合併／自社ブランドEquator® O-Ringを立ち上げ
韓国T&S Corporationを設立／韓国にて運営を開始
日本RiverStoneを代理しCeramics Coating台湾事業を開始
夸克密封工業を設立／FFKM O-Ringを生産／日本RiverStone工業を吸収合併
蘇州朗鐫を設立／金属及びターゲット事業を開始
CMP Membrane事業を開始
韓国CMATと合弁でSi Parts事業を開始／永泰氟樂の代理店となりフッ素液体市場へ参入
RON Internationalを設立／夸特材料を設立／台湾通宵生産基地を設立
製品の詳細や見積もり、サンプル依頼など、お気軽にお問い合わせください。担当者より折り返しご連絡いたします。
Company
株式会社RON International
Address
〒105-0023 東京都港区芝浦1丁目6番41-709号
Tel
03-6823-9366
info@ron-international.co.jp